依電鍍工藝分類，含鎳電鍍工藝包括：單金屬電鍍鎳工藝、鎳基合金電鍍工藝、復(fù)合化學(xué)鍍鎳工藝、化學(xué)鍍鎳工藝以及化學(xué)鍍鎳基合金等五類。從原理分類，五種電鍍工藝可分為電鍍與化學(xué)鍍兩類，兩者的不同之處在于電鍍工藝是陰陽離子在溶液中發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)，使鍍層金屬沉積在鍍件表面；而化學(xué)鍍則是多項(xiàng)化學(xué)反應(yīng)共同作用，到達(dá)公共平衡點(diǎn)之后產(chǎn)生較穩(wěn)定的化學(xué)沉積。

    含鎳廢水由于不同工藝在原理上的本質(zhì)區(qū)別可分為電鍍含鎳廢水與化學(xué)鍍鎳含鎳廢水，兩者的處理工藝決定了廢水的不同屬性，電鍍鎳鍍液成分簡單，依據(jù)鎳離子在堿性溶液中形成沉淀的原理即可去除；化學(xué)鍍鎳鍍液則十分復(fù)雜，包括主鹽、還原劑、緩沖劑、絡(luò)合劑等物質(zhì)，其中還原劑常采用次亞磷酸鹽，絡(luò)合劑采用檸檬酸、蘋果酸、酒石酸等，溶液化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，無法通過堿性沉積分離鎳離子實(shí)現(xiàn)達(dá)標(biāo)。

    含鎳廢水處理工藝可根據(jù)鍍液特性制定處理方案，電鍍工藝中產(chǎn)生的廢水直接調(diào)節(jié)pH使鎳離子形成沉淀過濾去除，化學(xué)鍍工藝中產(chǎn)生的廢水在處理時有兩種思路，一是打破鍍液化學(xué)平衡，破除絡(luò)合劑對鎳離子的絡(luò)合作用，再通過調(diào)節(jié)pH使鎳離子沉淀后固液分離去除；二是利用吸附力更強(qiáng)的HMC-M2從絡(luò)合劑中奪取鎳離子形成不溶性沉淀，進(jìn)而沉降去除。HMC-M2是絡(luò)合鎳廢水處理技術(shù)的核心，采用非穩(wěn)態(tài)螯合原理，可以破壞絡(luò)合劑與鎳離子之間的穩(wěn)態(tài)平衡。

    在兩類廢水的處理中，尤其要關(guān)注化學(xué)鍍鎳廢水的去除，對于種思路，實(shí)際操作中該類溶液的穩(wěn)態(tài)不易破壞，和鎳離子牢牢結(jié)合在一起的檸檬酸、酒石酸等物質(zhì)絡(luò)合力*，因此采用該思路進(jìn)行處理時往往不能達(dá)到理想的結(jié)果，第二種則由于操作簡便、效果穩(wěn)定等優(yōu)勢，在近年來應(yīng)用更為廣泛。